핵심 정보
경력경력 2년 ↑학력 학력무관근무형태 정규직, 프리랜서
급여 4,000~5,000만원 직급/직책 과장 근무일시주 5일(월~금) 오전 8시 30분~오후 5시 30분근무지역 경기 평택시
본 채용정보는 마감되었습니다.
KD테크에서 채용공고가 시작되면 이메일로 알려드립니다.
상세요강
반도체 배관 chemical 설계 경험자 모집. | ||||||||||||||||
|
근무지위치
(17820) 경기 평택시 고덕면 고덕로 7
지도 보기
접수기간 및 방법
마감되었습니다.
시작일2020.11.04 15:00마감일2020.11.09 00:05관심기업 설정 후 다음 채용시 지원해 보세요.
기업정보
KD테크 기업정보
사원수*28 명 (2018년 기준)업종기타제조업설립일*2017년 1월 1일 (업력 5년) 매출액* 25억원 (2018년 기준)대표자명*강지해기업주소경기 화성시 경기대로 1014 병점프라자(301호)
* 항목은 본사정보와 다를 수 있습니다.
�ݵ�ü ���������� �� ���ؼ� �����ϰ� ���� �帳�ϴ�..
(���� �̺о� �������� �ʱ� ������ ������ ������ ���� �����ϴ�..)
�ݵ�ü ����ü�� ũ�� �����ϸ� �Ϲ������� ���������� �İ�������� ���еȴ�.
���������� �ٽ�
1) ������ - �ݵ�ü�� ������ �Ǵ� ������ - ��
2) ������� - �����۸� �����Ͽ� Ĩ�� �����ϴµ� ���Ǵ� ����� ���丶��ũ,
���䷹����Ʈ, �ݵ�ü�� ������ ȭ����ǰ �� ������, �丮Ŭ, �輱
��� �� - �� ���еǸ�,
�İ�����ῡ��
�������- ����������, �������̾�, ������ �� - �� �ִ�.
�ݵ�ü����ü�� �����ϸ� �Ϲ������� ��������� �� �İ�������� ���еǸ�
���������� �ٽ�
1) Main���- CVD(ȭ���������), Asher, �İ����, Track��� �� ��
2) �ֺ����- �������, ����ij���, Chiller, Scrubber
Ŭ���뼳��, �ݵ�ü ���
���� ������ ���еǸ�,
��������
1) �˻����(Test Handler, Chip Mounter, Burn-in System ��)��
2) ��Ÿ���- ��Ű¡ ���(����, Ʈ����, �������), ������ ��ŷ��� ������
����������.
������ ���� �Ʒ��� �����ϴ�..
�����ϰ� �ݵ�ü ������� ���� ������ ���鿡 ���ؼ� ������ ���ڸ�
1) ȭ�б������(CVD : Chemical Vapor Deposition)
ȭ�б�������̶� �ݵ�ü �������� �� ������ �ȿ� ȭ�б�ü���� �����Ͽ� ȭ�й����� ���� ������ ȭ�չ��� �����ۿ� ���� �����Ű�� ���� ���ϸ� �� ������ ���Ǵ� ������ ��� �Ǵ� Ư��������
ȭ�б���������� �Ѵ�.
���������� ũ�� �װ����� �з��Ǵµ� 1) ���ȭ�б������ (AP CVD : Atmospheric Pressure CVD), 2) ���� ȭ�б������(LP CVD : Low Pressure CVD), 3) ��ȭ������ �� 4) �ö�� ȭ�� ���� (PE-CVD)���� ���� �� �ִ�
2) �����(Etchants) �� �������(Cleaning Chemicals)
�İ����� �ݵ�ü �������� �� ������ ���������� ���� ���ǵ��÷��� �������������� �������ϰ� ���Ǵ� ����̴�. �켱 �İ� �̶� ���� ������ ǥ���̳� ���ǵ��÷��� ���ǿ� �ݵ�ü ����ȸ�θ� ������Ű��ų� �ʿ��� ������ ��� ���Ͽ� ȭ�о�ǰ �� Ư�������� ȭ�й�����
�̿��Ͽ� ������ϴ� ������ ����� �۾��� �İ� �̶� �ϸ� �̷��� ������ ���Ǵ� ��ǰ�̳� Ư������ �� ��Ÿ��Ḧ �İ������ �Ѵ�.
�����̶� �����۳� ���ǵ��÷��� ǥ�鿡 �ݵ�ü �����̳� ���� ���� ���� ������ų �� �ݼӿ������̳� ���ڵ��� ������ ���������� �����ϱ� �����Ŀ�
�������� ��ǰ�� ����Ͽ� ���Ž����ִ� �۾��� �����̶� �ϸ� �ݵ�ü�������� 30 �� 40% ������ ���������� ���������� ��������� �߿伺�� �����ϴ� �� �� �ִ�.
3) ���丶��ũ : ���������ǿ� ȸ�θ� ��ȭ�� ȸ�ε��� ����
4) ���䷹����Ʈ(P/R) : ȸ�θ� ���� �����ϱ� ����
������
5) ���������� : Ĩ�� �ܺ�ȸ�ο��� ������ ���� ������
6) Etching (��)
Silicon Wafer�� �ʿ��� �κи��� ���ܳ��� ���ʿ��� �κ��� ȭ�� �Ǵ� ������ �쿩���� ���۰���
7) Bonding
�ַ� Wire Bonding�̶�� ���þ����� �ݵ�ü ��ǰ�� ������ Chip�� PAD�� �ܺ� ���ڸ� �������� �����ϴ� �۾�
8) Chiller(ĥ��)
�ݵ�ü���� �� �ַ� Etching(�İ�)�������� Process Chamber ���� �µ������� ���������� �����ϴ� �µ��������
9) Asher(����)
�ǽ� �İ��̳� �̿� ���� � ���� ������ �������� �ǽ�
����(Dry Strip)�� �ݵ�ü ������ ���
10) Burn in System
���� �µ�(83��~125��)�� Device�� ���� Stress�� ���Ͽ� Test�ϴ� ��ġ
11) Capillary
Wire Bonding �������� �ݼ��� �����ϴµ� ����ϴ� ���� (Ball ����� �������ְ�, Wire�� ���� �ִµ� ���)
Gold Wire�� �����ϴ� Bonding �۾��� Gold Wire�� Bonding ��ġ�� ��Ȯ�� �ȳ��ϰ�, ���� Gold Wire�� Chip�� �ܴ��ϰ� ����� �� �ֵ��� �����ĸ� Bonding ������ ����Ű�� ����� �����ϴ� ������ ������ǰ
12) Cascade System
3������ �Ǿ� �ִ� ���� �����ν� ������ ��(DI Water)�� �帣�鼭 �ٴ����κ��� ���Ұ� ����ǵ��� �Ͽ� Wafer�� �� ��ġ
13) Gold Wire : �ݵ�ü ������ Die�� Package ���ڰ��� �����ϴ� �ݼ� ����
14) Slurry Supply System
�ݵ�ü ���������� �ϳ��� CMP������ �������� �����Ͽ� ������ ǥ���� �ʹ̼� ��źȭ�ϴ� ��ġ
15) TRAY
�ݵ�ü ����, �ݵ�ü �� LCD Module��ǰ(�������� ��ǰ)�� �ܺ��� ����̳� ������, ������ �����κ��� �����ϰ� ��ȣ�� �� �ֵ��� ���۵� ��ǰ
16) Si, AI203, Quartz (��ü���� ������ �����ֳθ���Ʈ
���� "������Ƽ" ����)
�ݵ�ü ������� �κ�ǰ
17) NF3
�ݵ�ü �� LCD ������ Ư������
18) C.C.S.S
�ݵ�ü�� LCD�������� �ʿ��� Chemical�� ����� ���� �������� ���ݰ����ϴ� �ڵ�ȭ System�̸�, �پ��� ������ ��ǰ���� ������ ����
19) WET SYSTEM
�ݵ�ü�� ���� Cleaner �� LCD�� ���� system, Glass Etching system������ Fab������ Etching �� �����ÿ� ���Ǵ� ������ ���μ� �������� �ַ� �Ϻ����� �����Ͽ�����, �ֱ� ����ȭ ���߷� ���� ��ü���� ��ǰ.
20) RF-Genertor
�ݵ�ü ������ ���(Etch, CVD, ��)�� Plasma �� ������ġ�� ���
21) Pellicle (�����縮Ŭ)
�ݵ�üDevice ������ Photolithography(�뱤�İ�)�������� Photomask(�ݵ�ü����ȸ�ε�)�� �̹����κ��� ��ȣ�ϱ� ���� ���Ǵ� ��ǰ
22) GAS SCRUBBER
�ݵ�ü�� LCD ���꼳���� ���� GAS �� �����Ͽ� �����ϴ� ���� Air+Heating Condition�� ����, ���¿��� ����, 2�� ������ Powder Collector�� ���� ������ ����.
23) DI(DI Water)
�̿��� �������� ���� ���̶� ������, �Ҽ����� ���Ž�Ų ���� Wafer�� ���� �� ���ܽ� ����� ����
24) Dicing
���� �����̶���� �ϸ� Wafer���� ����� �ϳ��� ���� �������� �����ϴ� ���(���ʿ��� ������ ���θ� ����)
25) Flash Memory
�Ϲݸ� �ݵ�ü�� �� ������ ������ ����� �����Ͱ� �״�� �����Ǵ� �ݵ�ü
26) Foundry
��������� �ǹ��ϴ� Fabrication Plant�� ���Ǿ�� ���̸� ����ũ�����μ����� ������ �����ϴ� ���, �ݵ�ü ��Ź�����ü
27) Utility
����, ����, ����, ����, ���� �� ���� ������ �ʿ��� ��ҵ��� ��Ʋ�� ���´� ��
28) Wafer
�Լҹ������� �Լ�(Si)�� �������� �����Ͽ� ������Ų �� ��� �߶� ������ �ݵ�ü ���ڸ� ����µ� �����
������ �� ���� �ڷᰡ �־��µ� ����� ������ �ƽ��� ����Ǿ� �ִ� �ڷ� �ѿ����� �÷Ƚ��ϴ�..
���� �ݵ�ü ���/��� ���� ���
- ������ 04�� �����̰� ��ȣ ���� %�� 03�� ��� �������Դϴ�..
- ���ʿ� �ۼ��� �Ŷ� �ð��Ѿ��� 05�� 2/15�� �����Դϴ�.
- ���� ���� �űԵ�ϵ� ����� ���� ������ ����鵵 ���� ���Դϴ�..
(�ݵ�ü ��� ���ñ��)
(�ݵ�ü ������ ���)
�ݵ�ü �����̳� ��Ÿ ������ ���� �ڼ��� �˰� ������ �е��� ������ ���� ����Ʈ�� ���ø� ���� ���� ���Ǽ� �����Ŷ� �����˴ϴ�..
1) //www.ksia.or.kr/semi/1-1.htm
-> �ݵ�ü ���ʿ��, �������� ������ ���� ����
2) //www.icbank.com/
-> �ݵ�ü ���� �� �ݵ�ü�� ���� �ڷ�
3) //myhome.naver.com/bluelogic/data.html
-> ����ȣ ����� ���� Ȩ������ �ε� �̰��� �ݵ�ü �ڷ�Ƕ��� ������
4) //www.semimaterials.com/kor/korean/offer_wafer.html
-> �ݵ�ü�� ��� ������ ���� ���� (�ణ�� ���̵� ����)
�� ��� ������ ����Ʈ�� ��ũ�� �ڷḦ ���� ���� �浵�� ���ؼ� ������ �� ���� �̴ϴ�..
�ٽ� �о�� ���� �����ϳ�..
Ȥ�� �� �о��� ���������̳� �� �� �˰� �Խô� �е��� ���漳�� ��Ź�帮��
�� ���� �ڷᰡ �����ø� ���� ���������� �մϴ�..